Innbyggt slönguofnakerfi fyrir plasma-auka útfellingu
PECVD Tube Furnace er slönguofnakerfi hannað fyrir plasma-aukna efnagufuútfellingu. Kerfið samanstendur aðallega af kvars hvarfhólf, RF aflgjafa, fjöl-gasblöndunarkerfi, lofttæmi og viðbragðsstýringarkerfi.
RF örvunartæki er komið fyrir á undan hefðbundnum efnagufuútfellingarhluta. Það jónar hvarfgasið til að mynda plasma. Hærri hvarfvirkni blóðvökvans hjálpar til við að flýta fyrir útfellingu kvikmyndarinnar.
Þessi uppbygging er ætluð fyrir efnisframleiðsluferli sem krefjast filmumyndunar við tiltölulega lægra hitastig en krefst jafnframt stjórnunar á einsleitni filmu, endurtekningarhæfni, samsetningu og þykkt.


1100 gráðu upphitun með mörgum slöngum og lofttæmistillingum
Ofnhólfið notar há-súráltrefjaefni með há-sálhúð á yfirborðinu. Þessi uppbygging er notuð til að draga úr hitatapi og bæta hitunarskilvirkni.
Vinnuhitastigið er 1100 gráður.
Tiltækar kvarsrörastærðir eru Φ60 × 2200 mm, Φ80 × 2200 mm, Φ100 × 2200 mm og Φ120 × 2200 mm. Skráð aflsvið er 3–5 kW.
Viðnámsvír er notaður sem hitaþáttur. Hitunarhraði er 1–20 gráður/mín og hægt er að velja spennuna sem 220 V eða 380 V.
Tómarúmsvalkostir innihalda -0,1 MPa, 10 Pa og 6,67 × 10⁻⁴ Pa. Kaupendur geta valið lofttæmisstillingu í samræmi við tilskilið þunnfilmuvaxtarferli.
Val á ferli byggt á heildarútfellingarkerfinu
Hægt er að nota PECVD rörofninn fyrir vöxt grafen, kísilmónoxíðs, kísilnítríðs, kísiloxýnítríðs, myndlauss kísils og annarra skráðra kvikmynda.
Fyrir þennan búnað fela kaupákvarðanir meira en þvermál ofnrörsins. Rörið ákvarðar árangursríka viðbragðsrýmið en RF kerfið hefur áhrif á plasmamyndun. Fjölrása gaskerfið stjórnar blöndun hvarfgass og lofttæmiseiningin ákvarðar hvarfumhverfið.
Áður en uppsetning búnaðar er staðfest ættu kaupendur að skýra markefnið, undirlagsstærð, gerð hvarfgass, nauðsynlegt flæðisvið, lofttæmisþörf og hitastigsáætlun.
Þessi kerfis-nálgun hjálpar til við að forðast að velja búnað eingöngu í samræmi við þvermál rörs á meðan hún horfir yfir gas-, RF- og lofttæmisþörf útfellingarferlisins.
Sérsniðin viðbragðsklefar og pöntunareftirlit
Nengcheng Crystal hefur komið sér upp framleiðslugetu fyrir há-hreinar súráltrefjar og há-hita ofnaeinangrunarvörur, þar á meðal efnisþróun, blauttómamótun og fullunnar-vöruvinnslu.
Fyrir ó-stöðluð viðbragðshólf, sérstaka rörstærð eða fjöl-rása gasstillingu er hægt að ræða OEM og ODM þróun samkvæmt tækniteikningum eða eðlisfræðilegum frumgerðum.
Sérsniðin framleiðsla þarf venjulega 20–45 daga. Hægt er að útvega myndir eða myndbönd meðan á framleiðslu stendur.
Búnaður er venjulega skoðaður fyrir pökkun og skoðun þriðju-aðila er samþykkt. Eftir afhendingu heldur sérhæft starfsfólk áfram að sjá um samskipti eftir-sölu.
Vörulýsing
|
Parameter |
Forskrift |
|
Rekstrarhitastig |
1100 gráður |
|
Ofnrörstærð |
Φ60 × 2200 til Φ120 × 2200 mm |
|
Power Range |
3–5 kW |
|
Upphitunarhlutfall |
1–20 gráður/mín |
|
Vacuum Level |
-0,1 MPa, 10 Pa, 6,67 × 10⁻⁴ |
maq per Qat: pecvd rör ofn, Kína pecvd rör ofn framleiðendur, birgja, verksmiðju

